Ion Source離子源

簡要描述：關(guān)于Ion Source離子源
等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數(shù)量級。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實現(xiàn)比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

產(chǎn)品型號：

所屬分類：離子源

更新時間：2025-06-24

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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詳情介紹

Ion Source離子源適用于各種應用的高亮度等離子離子源

等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數(shù)量級。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實現(xiàn)比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

等離子離子源可以通過改變工藝氣體產(chǎn)生不同種類的離子。此外，等離子離子源能夠與質(zhì)量過濾器結(jié)合使用產(chǎn)生負離子種類。

Ion Source離子源