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OAI 200型光刻機(jī)和紫外掩膜曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具，采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計，使OAI成為MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的ling xian者。
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