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Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造 OAI 系統(tǒng)能夠處理各種常規(guī)形狀和不規(guī)則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內(nèi)可提供均勻的紫外線曝光。
地址：廣東省深圳市寶安區(qū)鐵仔路九方廣場(chǎng)2棟902室
郵箱：support@firstnanosystem.com
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