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集成式 IV光伏測(cè)試系統(tǒng)由OAI設(shè)計(jì)與制造 它通過(guò)提供優(yōu)化的脈沖寬度和電壓掃描速率,以匹配任何類(lèi)型太陽(yáng)能電池的高電容和較慢的介電響應(yīng)速度。
AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造 晶圓鍵合技術(shù)已在微系統(tǒng)技術(shù)(MST)、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、III-V 族(半導(dǎo)體)、集成電路(ICs)及光電子器件等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器由OAI設(shè)計(jì)與制造 該太陽(yáng)能模擬器采用*的均勻光束光學(xué)系統(tǒng),包括專(zhuān)有鍍膜反射鏡、濾光片和光束均勻性積分器,能夠提供高精度、準(zhǔn)直的光束,且工作距離最長(zhǎng)。
Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造 用于重新分布層(RDL)面板級(jí)封裝和玻璃面板曝光的大尺寸基板生產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)器或泛光曝光系統(tǒng)。
Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī)由OAI設(shè)計(jì)與制造 可用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、傳感器、先進(jìn)晶圓級(jí)封裝(WLP)、化合物半導(dǎo)體、發(fā)光二極管(LED)以及扇出型面板級(jí)封裝(Fanout PLP)。