簡要描述:2Z-HVS-200 高真空封裝機用于 MEMS(微機電系統(tǒng))的封裝。兩種型號可選。溫度最高可達(dá) 450°C。上下加熱設(shè)計。真空環(huán)境下升溫降溫速率最高 20 K / 分鐘。水平方向自動開合。
產(chǎn)品型號:
所屬分類:2Z-HVS-200 高真空封裝機
更新時間:2025-07-15
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
● MEMS(微機電系統(tǒng))的密封及熱封裝
● 吸氣劑激活
(在真空系統(tǒng)內(nèi)部沉積反應(yīng)性材料)
● 在雙溫區(qū)熱處理過程中實現(xiàn)元件分離
● 上下加熱
● 最多 4 條內(nèi)部氣體管路
● 數(shù)據(jù)記錄功能
● 真空度可達(dá) 10??百帕
● 配備西門子 SIMATIC® 控制器
● 通過 360°C 光學(xué)過程控制
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2Z-HVS 是一款高真空密封設(shè)備,可對 MEMS 進(jìn)行氣密性密封。
該系統(tǒng)可使用標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體,如氮氣、氧氣、形成氣等。
默認(rèn)配置 1 條帶質(zhì)量流量控制器(MFC)的氣體管路,還可額外增加 3 條氣體管路(可選配質(zhì)量流量控制器)。
系統(tǒng)真空度可達(dá) 10??百帕。
最高可達(dá)到的溫度為 450°C。
加熱板具有優(yōu)異的溫度分布性與均勻性。
2Z-HVS 配備 SIMATIC® 控制器,可直接在設(shè)備上編程,也可通過 USB 接口連接電腦進(jìn)行便捷編程。設(shè)備可存儲 20 個程序,每個程序包含 100 個步驟。
底部加熱板采用主動水冷方式。腔室外殼冷卻需依賴外部冷卻(建議使用閉環(huán)水冷系統(tǒng),配件型號:WC-I)。
工藝腔室周圍設(shè)有 360° 玻璃筒,可實時觀察工藝過程。
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