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  • KLA Filmetrics F10-ARc薄膜厚度測(cè)量?jī)x
    KLA Filmetrics F10-ARc薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F10-ARc薄膜厚度測(cè)量?jī)x便攜式反射儀帶有內(nèi)部光纖,利用具有長(zhǎng)壽命、低功率光源可以測(cè)量曲面上的減反射涂層厚度。以極低的價(jià)格在幾秒鐘內(nèi)測(cè)量到顏色、反射率和薄膜厚度。

    更新時(shí)間:2025-03-10型號(hào):瀏覽量:220
  • KLA Filmetrics F10-AR薄膜厚度測(cè)量?jī)x
    KLA Filmetrics F10-AR薄膜厚度測(cè)量?jī)x

    KLA Filmetrics F10-AR薄膜厚度測(cè)量?jī)x便攜式反射儀帶有內(nèi)部光纖,利用具有長(zhǎng)壽命、低功率光源可以測(cè)量曲面上的減反射涂層厚度。以極低的價(jià)格在幾秒鐘內(nèi)測(cè)量到顏色、反射率和薄膜厚度。

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  • KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀
    KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀

    KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測(cè)試儀,方塊電阻測(cè)試儀可對(duì)金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導(dǎo)和薄膜電導(dǎo)率進(jìn)行測(cè)繪。R54是方塊電阻測(cè)量的最新一代升級(jí)款,它在保持 R50相同性能情況下提供遮光環(huán)境,能夠支持半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體應(yīng)用。

    更新時(shí)間:2025-05-09型號(hào):瀏覽量:720
  • KLA NanoFlip納米壓痕儀
    KLA NanoFlip納米壓痕儀

    KLA NanoFlip納米壓痕儀可在真空和氣氛條件下,準(zhǔn)確、精密地進(jìn)行硬度、模量、屈服強(qiáng)度、剛度和其它納米力學(xué)性能的測(cè)試。無(wú)論在掃描電子顯微鏡(SEM)或是聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)中,NanoFlip均可出色完成微柱壓縮等測(cè)試,并將SEM圖像與力學(xué)測(cè)試數(shù)據(jù)同步。NanoFlip是一款緊湊、靈活的原位納米力學(xué)測(cè)試儀,其測(cè)試速度快,這對(duì)于在惰性條件下(例如手套箱中)測(cè)試非均質(zhì)材料至關(guān)重要。

    更新時(shí)間:2025-03-10型號(hào):瀏覽量:490
  • KLA iNano®納米壓痕儀
    KLA iNano®納米壓痕儀

    KLA iNano®納米壓痕儀使測(cè)量薄膜、涂層和小體積材料變得更簡(jiǎn)單。準(zhǔn)確、靈活、用戶友好的儀器可以進(jìn)行多樣的納米材料力學(xué)測(cè)試,包括壓痕、硬度、劃痕和通用的納米尺度測(cè)試。大范圍的力和位移動(dòng)態(tài)測(cè)量范圍允許對(duì)從軟聚合物到金屬的材料進(jìn)行精確和可重復(fù)的測(cè)試。 模塊選項(xiàng)可以適配各種應(yīng)用:材料性能分布圖、特定頻率的測(cè)試、劃痕和磨損測(cè)試以及高溫測(cè)試。

    更新時(shí)間:2025-03-10型號(hào):瀏覽量:255
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