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Harrick等離子清洗機(jī)是用于清洗實(shí)驗(yàn)室玻璃儀器和襯底表面的設(shè)備，其原理是利用等離子體對(duì)樣品表面進(jìn)行清洗和去除污染物。等離子體是物質(zhì)中電離產(chǎn)生的電子、離子和中性粒子的混合態(tài)，具有高能量和高反應(yīng)性。通過建立一個(gè)含有氣體的高頻電場(chǎng)，通過放電產(chǎn)...

勻膠旋涂?jī)x是種常用于涂布薄膜材料的實(shí)驗(yàn)儀器。它的工作原理是通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤和膠刀的協(xié)同作用，將膠液均勻涂布在基材表面上。主要由以下幾部分組成：轉(zhuǎn)盤、膠刀、膠液容器、控制系統(tǒng)和支架等。轉(zhuǎn)盤是它的核心部件，它由材料均勻、表面光滑的材料制成。轉(zhuǎn)盤可以...

擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)是利用等離子體清洗表面的技術(shù)，能夠有效去除物體表面的有機(jī)物和無機(jī)物。將待清洗的物體放在清洗室內(nèi)，關(guān)閉清洗室的門。清洗室內(nèi)包含一個(gè)空氣抽真空裝置，用于將清洗室內(nèi)的空氣抽出，以創(chuàng)建一個(gè)真空環(huán)境。接下來，通過加入一定的工作氣體(...

高功率等離子清洗機(jī)的清洗原理是根據(jù)電離氣體將來自清洗源被固定在表面的化合物轉(zhuǎn)變?yōu)闊o害的氣體。基于高頻電離氣體產(chǎn)生等離子體的設(shè)備，用于清洗表面污染物以及去除表面化學(xué)物質(zhì)。這種清洗方法很適用于那些高負(fù)荷、密集成分的部件和微型裝置元件?？梢圆扇「?..

激光二極管是當(dāng)前常用的激光器之一，在二極管的PN結(jié)兩側(cè)電子與空穴的自發(fā)復(fù)合而發(fā)光的現(xiàn)象稱為自發(fā)輻射。當(dāng)自發(fā)輻射所產(chǎn)生的光子通過半導(dǎo)體時(shí)，一旦經(jīng)過已發(fā)射的電子—空穴對(duì)附近，就能激勵(lì)二者復(fù)合，產(chǎn)生新光子，這種光子誘使已激發(fā)的載流子復(fù)合而發(fā)出新光...

光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x并不復(fù)雜，通俗的說，就是液滴在固體表面自然形成的半圓形態(tài)相對(duì)于固體平面的外切線。接觸角的應(yīng)用非常廣泛，甚至可以說涉及到身邊的每個(gè)細(xì)節(jié)，比如我們希望汽車玻璃上不沾雨水、但反之我們希望汽車鋼板上的油漆不脫落。其他比如農(nóng)藥和蔬菜葉...

勻膠顯影系統(tǒng)是一種用于信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、物理學(xué)、工程與技術(shù)科學(xué)基礎(chǔ)學(xué)科、材料科學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，涂膠顯影設(shè)備是芯片制程中不可少的處理設(shè)備，利用機(jī)械手實(shí)現(xiàn)晶圓在各系統(tǒng)間的傳輸和加工，與光刻機(jī)達(dá)成配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等...

薄膜反射儀主要用于建筑節(jié)能領(lǐng)域外墻熱反射涂料、節(jié)能玻璃、油漆、金屬等材料的現(xiàn)場(chǎng)太陽(yáng)反射比測(cè)量，同時(shí)也適用于涂料、油漆等材料的配方研發(fā)及生產(chǎn)測(cè)試，可以同時(shí)面向工程現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)和實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)。具有性價(jià)比高，測(cè)量快速、準(zhǔn)確，操作簡(jiǎn)單，攜帶方便等特點(diǎn)，配...

濕法刻蝕系統(tǒng)工藝主要包括三部分：硫酸、硝酸、氫氟酸氫氧化鉀氫氟酸本工藝過程中，硝酸將硅片背面和邊緣氧化，形成二氧化硅，氫氟酸與二氧化硅反應(yīng)生成絡(luò)合物六氟硅酸，從而達(dá)到刻蝕的目的?？涛g之后經(jīng)過KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并將從刻蝕槽中攜帶...

濕法制粒(wetgranulation)是在藥物粉末中加入液體粘合劑，靠粘合劑的架橋或粘結(jié)作用使粉末聚結(jié)在一起而制備顆粒的方法。由于濕法制粒的產(chǎn)物具有外形美觀、流動(dòng)性好、耐磨性較強(qiáng)、壓縮成形性好等優(yōu)點(diǎn)，在醫(yī)藥工業(yè)中的應(yīng)用廣泛。而對(duì)于熱敏性、...